E-RETICLE

Das E-Reticle ermöglicht In-Situ-Messungen von elektrostatischen Aufladungen auf Fotomasken während des Produktions- und Nutzungsprozesses. Hierfür wurde erstmalig Messtechnik in ein Produkt integriert, welches Produktionsanlagen durchlaufen kann.

Die Lebensdauer von Fotomasken ist begrenzt. Ein Faktor, der diese Lebensdauer noch weiter heruntersetzen kann, sind elektrostatische Probleme. Durch die Kombination von floatenden, leitfähigen Chromflächen und hochisolierendem Quarzglas bietet die Maskenoberfläche die perfekten Voraussetzungen, um elektrostatische Aufladungen zu generieren. Dies kann bereits in der Maskenproduktion oder auch während ihrer Verwendung in der Waferproduktion geschehen. Bewegliche Teile in den Maschinen, Reibung oder anderen Faktoren können einen Potentialabfall zwischen den verschiedenen Chromflächen erzeugen, was wiederum elektrostatische Entladungen zwischen den Flächen zur Folge haben kann. Nicht jede Entladung zerstört die Chromteile sofort. Viel häufiger hinterlassen sie kaum wahrnehmbare Beschädigungen, die erst mit der Zeit durch Korrosion, mechanische Belastungen oder weitere Entladungen zu einem Defekt führen.

Die Fotomasken in der High-End-Chipproduktion werden zunehmend empfindlicher. Kleinere Strukturen auf der Oberfläche vereinfachen den Überschlag einer Entladung und sind gleichzeitig anfälliger für Beschädigungen. Durch die Messung der elektrostatischen Aufladungen, die sich auf der Maskenoberfläche im Produktionsprozess oder während der Benutzung bilden, können Probleme frühzeitig erkannt und beseitigt und damit die Lebensdauer der Fotomasken erheblich verlängert werden.

Das E-Reticle ist das erste System, das In-Situ-Messungen der elektrostatischen Aufladungen auf der Maskenoberfläche im Verlauf des gesamten Produktionsprozesses ermöglicht. Gemessen werden die Potentialunterschiede von vier verschiedenen Flächen im Verhältnis zu einem äußeren Ring auf der Maskenoberfläche. Es wird also genau dort gemessen, wo das Risiko für die Entstehung von Aufladungen und daraus resultierende Schäden am höchsten ist. Das E-Reticle besitzt eine Echtzeituhr, Speicher, WLAN-Anbindung und wird mit der benötigten Software geliefert. Damit kann der Produktionsprozess problemlos analysiert und Problemstellen lokalisiert werden.

Das E-Reticle wurde entwickelt, um eine regelmäßige Prozesskontrolle auf elektrostatische Probleme durchzuführen. Die SMIF-kompatible Dockingstation ermöglicht es, die Messungen mit dem E-Reticle in den automatisierten Produktionsprozess zu integrieren. So können leicht alle Prozessschritte vermessen werden, die auch eine echte Fotomaske durchläuft.
Für den Einsatz des E-Reticles in der Risikoanalyse und im Bereich Forschung & Entwicklung ist auch eine manuelle Dockingstation erhältlich.

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